Ж-л "Biotechnologia Acta" Т. 12, № 3, 2019
https://doi.org/10.15407/biotech12.03.057
ВЛИЯНИЕ КОРОТКОВОЛНОВОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА ЭКСПРЕССИЮ ГЕНОВ У Arabidopsis Thaliana
М. Кривохижа, Ю. Либантова, Н. Рашидов
Целью нашего является изучение влияния облучения коротковолновым ультрафиолетом (длина волны 230 нм) растений Arabidopsis thaliana. Исследована стрессовая реакция некоторых ключевых генов фотопериодического механизма: AP1, GI, FT, CO и RAD51. Для выращивания растений применяли красный (длина волны 610–750 нм), фиолетовый (длина волны 400–450 нм), нейтральный белый (смешаные волны с длиной 380–750 нм) с интенсивностью LED-ламп 20 Вт и 40 Вт. Экспериментальную группу растений облучали коротковолновым ультрафиолетом (длина волны 230 нм) на стадии онтогенеза 5.1 по классификации Бойса (2001). В качестве маркера вегетационного роста также была проанализирована длина листа. Облучение коротковолновым ультрафиолетом вызывало различия в профилях экспрессии генов фотопериодического механизма регуляции цветения у растений, выращенных при разном освещении. Наблюдалась раннее начало фазы цветения при выращивании в интенсивном белом освещении и позднее при фиолетовом и обычном белом освещении по стравнению с контрольной групой. Таким образом было выявлено, что криптохромы и фитохромы играют важную роль в формировании стрессоустойчивости растений. Данные исследования важны для биотехнологии и сельского хозяйства, что поможет определить наиболее оптимальные способы выращивания растений в условиях стресса.
< Предыдущая | Следующая > |
---|